Research of the vacuum arc discharge on integrally cold cathode during coating processes
| dc.contributor.author | Lisenkov, A. A. | |
| dc.contributor.author | Valuev, V. P. | |
| dc.contributor.author | Sanchugov, E. L. | |
| dc.contributor.author | Лисенков, А. А. | |
| dc.contributor.author | Валуєв, В. П. | |
| dc.contributor.author | Санчугов, Є. Л. | |
| dc.date.accessioned | 2026-05-15T10:50:40Z | |
| dc.date.available | 2026-05-15T10:50:40Z | |
| dc.date.issued | 2012 | |
| dc.description | Lisenkov A. A. Research of the vacuum arc discharge on integrally cold cathode during coating processes / A. A. Lisenkov, V. P. Valuev, E. L. Sanchugov // Нові матеріали і технології в металургії та машинобудуванні. – 2012. – № 1. – С. 66-71. | |
| dc.description.abstract | EN: The vacuum arc plasma source of extended design generating the directed belt plasma stream and operating in pulse mode was presented. The researches carried out gave additional information about development of the cathode spots of the vacuum arc discharge. It is found that the cathode spots’ motion speed depends on the cathode temperature. UK: У статті надане вакуумно-дугове джерело плазми протяжної конструкції, що працює в імпульсно-періодичному режимі і формує спрямований стрічковий потік плазми. Проведені дослідження дозволили отримати додаткову інформацію про розвиток катодних плям вакуумно-дугового розряду. Виявлено залежність швидкості переміщення катодних плям від температури катода. | |
| dc.identifier.uri | https://eir.zp.edu.ua/handle/123456789/28725 | |
| dc.language.iso | en | |
| dc.publisher | Національний університет «Запорізька політехніка» | |
| dc.subject | plasma | |
| dc.subject | vacuum-arc discharge | |
| dc.subject | cathode spot | |
| dc.subject | coating | |
| dc.subject | плазма | |
| dc.subject | вакуумно-дуговий розряд | |
| dc.subject | катодна пляма | |
| dc.subject | покриття | |
| dc.title | Research of the vacuum arc discharge on integrally cold cathode during coating processes | |
| dc.title.alternative | Дослідження вакуумно-дугового розряду на інтегрально-холодному катоді при нанесенні покриття | |
| dc.type | Article |