Управление дефектной структурой бездислокационных монокристаллов кремния на стадии роста кристалла
dc.contributor.author | Таланін, Віталій Ігорович | |
dc.contributor.author | Talanin, Vitaliy I. | |
dc.contributor.author | Таланин, Виталий Игоревич | |
dc.contributor.author | Таланін, Ігор Євгенович | |
dc.contributor.author | Talanin, Igor E. | |
dc.contributor.author | Таланин, Игорь Евгеньевич | |
dc.contributor.author | Сирота, Анатолій Васильович | |
dc.contributor.author | Syrota, Anatoliy V. | |
dc.contributor.author | Сирота, Анатолий Васильевич | |
dc.date.accessioned | 2015-03-24T11:22:27Z | |
dc.date.available | 2015-03-24T11:22:27Z | |
dc.date.issued | 2008 | |
dc.description | Controlling the dislocation-free silicon monocrystals defect structure on the crystal growth phase. / V.I. Talanin, I.E. Talanin, A.V. Sirota / New technologies | uk |
dc.description.abstract | UK: Розглянута проблема формування вторинних ростових мікродефектів (вакансійних мікропор) у бездислокаційному монокристалі кремнію. Розроблено додаток для програмної реалізації математичної моделі утворення мікродефектів. RU: Проведено чисельний розрахунок моделі, що підтвердив основні положення гетерогенної дифузійної моделі утворення ростових мікродефектів. EN: The secondary grown-in microdefects formation (vacancy clusters) problem in the dislocation-free silicon monocrystals is considered in this article. The application for mathematical model software support is developed. The model numerical computation is realized. It confirms the main statements of heterogenic diffusion model of grown-in microdefects formation. Рассмотрена математическая модель и алгоритм расчета процесса образования вторичных ростовых микродефектов в бездислокационных монокристаллах кремния . Предлагается последовательность действий, за счет которых появляется возможность управления дефектной структурой бездислокационных монокристаллов кремния, в частности, за счет уничтожения условий для создания таких вторичных ростовых микродефектов, как вакансионные микропоры. | uk |
dc.identifier.uri | http://eir.zntu.edu.ua/handle/123456789/232 | |
dc.language.iso | ru | uk |
dc.publisher | Кременчуцький університет економики, інформаційних техноьогій та управління | uk |
dc.subject | ростові мікродефекти | uk |
dc.subject | бездіслокаційний монокристал кремнію | uk |
dc.subject | вторинні ростові дефекти | uk |
dc.subject | гетерогенний механизм дефектоутворення | uk |
dc.subject | grown-in microdefects | uk |
dc.subject | dislocation-free silicon monocrystals | uk |
dc.subject | secondary grown-in microdefects | uk |
dc.subject | heterogenic diffusion model | uk |
dc.subject | ростовые микродефекты | uk |
dc.subject | бездислокационный монокристалл кремния | uk |
dc.subject | вторичные ростовые дефекты | uk |
dc.subject | гетерогенный механизм дефектообразования | uk |
dc.title | Управление дефектной структурой бездислокационных монокристаллов кремния на стадии роста кристалла | uk |
dc.title.alternative | Controlling the dislocation-free silicon monocrystals defect structure on the crystal growth phase | uk |
dc.title.alternative | Управління дефектною структурою бездіслокаційних монокристалів кремнію на стадії росту кристалу | uk |
dc.type | Article | uk |