Моделирование условий роста и технологии получения бездислокационных монокристаллов кремния без вторичных растовых микродефектов

dc.contributor.authorТаланін, Віталій Ігорович
dc.contributor.authorТаланін, Ігор Євгенович
dc.contributor.authorСирота, Анатолій Васильович
dc.contributor.authorTalanin, Vitaliy I.
dc.contributor.authorTalanin, Igor E.
dc.contributor.authorSirota, Anatolij V.
dc.contributor.authorТаланин, Виталий Игоревич
dc.contributor.authorТаланин, Игорь Евгеньевич
dc.contributor.authorСирота, Анатолий Васильович
dc.date.accessioned2019-11-25T12:09:22Z
dc.date.available2019-11-25T12:09:22Z
dc.date.issued2008
dc.descriptionТаланин В. И., Таланин И. Е., Сирота А. В. Моделювання умов зростання і технології отримання бездислокаційних монокристалів кремнію без вторинних растових мікродефектів / Матеріали ІІІ Міжнародної науково-практичної конференції «Матеріали електронної техніки та сучасні інформаційні технології» (МЕТТІТ-3), 21 травня 2008 р.uk
dc.description.abstractUK: Розробка моделі дефектоутворення в бездислокаційних монокристалах кремнію з можливістю моделювання і отримання бездислокаційних монокристалів кремнію з заздалегідь заданою дефектною структурою, а також управління нею під час наступних технологічних впливах. EN: Development of a model of defect formation in dislocation-free silicon single crystals with the possibility of producing dislocation-free silicon single crystals with a predetermined defect structure and its control during the following technological actions RU: Разработка модели дефектообразования в бездислокационных монокристаллах кремния с возможностью получения бездислокационных монокристаллов кремния с заранее заданной дефектной структурой и управления ей во время следующих технологических воздействий.uk
dc.identifier.urihttp://eir.zntu.edu.ua/handle/123456789/4984
dc.language.isoruuk
dc.publisherм. Кременчук, Кременчуцький університет економіки, інформаційних технологій і управління.uk
dc.subjectgrowth microdefectsuk
dc.subjectheterogeneous diffusion modeluk
dc.subjectdislocation-free silicon single crystalsuk
dc.subjectcrucible zone meltinguk
dc.subjectростові мікродефектиuk
dc.subjectгетерогенна диффузиона модельuk
dc.subjectбездіслокаційні монокристали кремніюuk
dc.subjectбестигельне зонне плавленняuk
dc.subjectростовые микродефектыuk
dc.subjectгетерогенная диффузионная модельuk
dc.subjectбездислокационные монокристаллы кремнияuk
dc.subjectбезтигельная зонная плавкаuk
dc.titleМоделирование условий роста и технологии получения бездислокационных монокристаллов кремния без вторичных растовых микродефектовuk
dc.title.alternativeModeling of growth conditions and technology for producing dislocation-free silicon single crystals without secondary rast microdefectsuk
dc.title.alternativeумов зростання і технології отримання бездислокаційних монокристалів кремнію без вторинних растових мікродефектівuk
dc.typeArticleuk

Files

Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
Talanin_Modeling.pdf
Size:
139.24 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Наукова стаття
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: